随着现代集成半导体器件、微电子等高科技企业的发展，半导体制造工序及技术的提升，以及产品制程线宽的缩小，尤其在其线宽进入45 nm 以下时，空气中的气态分子污染物（以下简称AMC）对高端半导体产品的品质影响日益显现，常会引起产品的成品率下降、性能退化及失效，越来越多的半导体生产厂商意识到半导体AMC过滤材料的重要性。

国际半导体设备和材料协会在SEMI F21-95、F21-1102中给出了AMC气体的分类体系。该标准适用于半导体业的洁净环境，指定了4个“标准范围”：酸(MA)，碱(MB)，冷凝物(MC)及杂质(MD)。具体如下：

      电子行业中AMC 主要危害是引起人类各种疾病和造成产品良品率降低。一方面工作人员长期接触导致各种疾病健康问题；另一方面在是产品良品率下降，导致质量问题，如有金属薄膜腐蚀、光学器件雾化、表面湿润性变化、光刻胶的T型缺陷、薄膜粘附问题和不均匀氧化物的生长等，使晶圆表面出现生成薄膜或造成腐蚀等问题，从而造成晶圆的电气、光学、化学或物理特性改变而导致质量缺陷。图 1展示了几种晶圆生产过程中常见的污染的电镜图片。

对于化学过滤材料的质量评价可以依据C3E2标准，即吸附容量，适用性，洁净度，过滤效率，压损能耗五个指标。

1、吸附容量(Capacity)

吸附容量是反应化学过滤材料寿命的重要指标，指化学过滤材料的吸附能力在到达某个额定的过滤效率时，吸附污染物的总质量。吸附剂的质量越多，能吸附的污染物质量越大，吸附剂的吸附性能优越，能吸附的污染物质量越大。吸附容量的大小与滤芯面积及吸附剂本身的性能都有关系。

2、适用性(Compatibility)

要求化学过滤材料的功能性吸附材料一定要与需要去除的目标污染物匹配，才能起到充分的净化效果。

3、洁净度(Cleanliness)

虽然化学过滤材料不是主要去除颗粒物的装置，但也要求其本身尽量不产生额外的颗粒物污染物，或者产生的颗粒物必须可以控制在一定合理范围内。

4、过滤效率(Efficiency)

过滤效率是过滤材料的重要技术指标，其计算方式如公式1-1所示。过滤效率高则意味着有害气体被去除的更干净，随着时间的延长，吸附剂被慢慢消耗后，而逐渐下降。由下方公式可知，过滤效率下降后，下游浓度会不断升高，直至化学过滤材料报废。

5、压损(Resistance)

压损是过滤材料重要运行指标，压损高则电力消耗大，运行费用高。在保证吸附效率的前提下，压损越低越好。

全方位解决空气质量问题，保障健康与生产效率

富瑞邦生产的化学过滤材料包含除酸、除碱、除VOCs、除正丁烷、除醛等多种气态污染物控制功能，解决了单一颗粒污染物控制不能满足实际需求的问题，实现粉尘过滤和气态污染物过滤的双重高效过滤；精准的气态污染物控制，可通过不同化学滤料高效去除不同应用环境下的目标气态污染物；高的气态污染物容污量，长使用寿命；较低阻力，无递增压损，节能环保。在芯片 /半导体/光伏电子洁净室；化学实验室、 化工车间、汽车装涂；生物制药 /化妆品制造/医疗超净室等领域得到了广泛应用，切实保障生活健康、生产稳定运行，提升半导体微电子行业良品率、降低成本。